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Purion系列離子注入機是與客戶合作開發(fā)的，旨在應(yīng)對當(dāng)前和未來10nm或更低晶圓廠工藝的挑戰(zhàn)。Purion 平臺建立在 21 世紀(jì)的架構(gòu)之上，采用獨特的使能技術(shù)設(shè)計，可提供最高的純度、精度和生產(chǎn)率，以及最低的擁有成本。
每個晶圓廠都是獨一無二的。這就是為什么Axcelis花時間了解您的工藝流程，并根據(jù)您的特定需求定制離子注入解決方案。Axcelis優(yōu)化相應(yīng)的平臺，以滿足一系列應(yīng)用的特殊要求——從存儲器到高級邏輯，從圖像傳感器到功率器件。Axcelis重大的研發(fā)投資創(chuàng)造了一套基于現(xiàn)代架構(gòu)的不斷擴展的離子注入平臺，并針對當(dāng)今新興的半導(dǎo)體應(yīng)用進行了優(yōu)化。Axcelis繼續(xù)投資于下一代技術(shù)，以使Axcelis客戶在創(chuàng)新曲線上保持領(lǐng)先地位。
Axcelis始終將環(huán)境，社會和治理政策和目標(biāo)整合到Axcelis的業(yè)務(wù)運營中。與所有管理實踐一樣，Axcelis的政策和目標(biāo)已經(jīng)并將繼續(xù)隨著Axcelis的業(yè)務(wù)和全球優(yōu)先事項而發(fā)展。
Axcelis歡迎投資者關(guān)注Axcelis的環(huán)境，社會和治理政策和目標(biāo)，Axcelis致力于與投資者分享有關(guān)這些主題的適當(dāng)、相關(guān)和重要數(shù)據(jù)。
與Axcelis業(yè)務(wù)的各個方面一樣，ESG 風(fēng)險和改進機會在Axcelis的企業(yè)風(fēng)險管理系統(tǒng)和戰(zhàn)略規(guī)劃流程中得到解決，這些流程由Axcelis的董事會監(jiān)督。Axcelis認為，鑒于ESG主題對Axcelis業(yè)務(wù)的重要性，整個董事會都應(yīng)該監(jiān)督這些主題。
為了滿足市場對極端圖像質(zhì)量和分辨率的需求，圖像傳感器制造商必須生產(chǎn)兼具高像素密度和極低金屬污染的芯片。為了實現(xiàn)這種平衡，同時最大限度地提高產(chǎn)量和盈利能力，制造商面臨著一些困難的技術(shù)挑戰(zhàn)。
晶圓廠面臨的主要挑戰(zhàn)：
實現(xiàn)紅光和近紅外光子的高量子效率
最大限度地減少暗電流和白像素缺陷
減小像素大小
Axcelis解決方案：
Axcelis通過業(yè)界最先進的離子注入解決方案幫助圖像傳感器芯片制造商應(yīng)對這些挑戰(zhàn)。Axcelis的 Purion 平臺提供：
更高的光束能量 — 高達 15 MeV
使用Axcelis獨有的矢量控制系統(tǒng)進行精確的角度控制
無與倫比的低金屬污染水平
Axcelis的 Purion XE 系列離子注入機已迅速成為當(dāng)今要求苛刻的高能配方的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。他們獨特的射頻直線加速器（LINAC）技術(shù)提供比競爭平臺更高的可靠性，更寬的能量范圍和更高的生產(chǎn)率，并具有卓越的金屬污染控制。
純度
Axcelis基于 RF LINAC 的光束線中的多重過濾技術(shù)可過濾掉其他設(shè)計遺漏的雜質(zhì)，從而實現(xiàn)業(yè)界最低的金屬和顆粒污染水平。
精度
專有的 VectorTM 控制系統(tǒng)獨特地提供原位水平和垂直測量和校正，可實現(xiàn)零度植入。
生產(chǎn)力
借助Axcelis的高速 Purion 終端站和基于 RF LINAC 的光束線，可實現(xiàn)高達 500 WPH 的吞吐量，在最廣泛的能量范圍內(nèi)（從 40keV 到 15MeV）提供業(yè)界最高的波束電流。
優(yōu)化您的能量水平
Purion 高能量系列包括各種植入器，允許您為您的應(yīng)用選擇最佳能量水平：
Purion XE — 12 級直線加速器，能量高達 4.5 MeV
Purion EXE — 12 級 LINAC，能量高于 Purion XE，高達 5.25 MeV
Purion VXE — 帶能量增強器的 14 級 LINAC 可提供高達 8 MeV 的能量
Purion XEmax — 雙直線加速器設(shè)計，采用專利升壓技術(shù)TM，可提供高達 15 MeV 的最高能量
Purion XE Power 系列—XE 和 EXE 型號專為大批量功率器件鋁注入、150mm SiC 晶圓處理或 200mm 薄硅晶圓處理而設(shè)計。
GSD平臺是制造和支持時間最長的批量離子注入機的行業(yè)基準(zhǔn)。Ovation 是最新的批量配置，旨在與現(xiàn)有的 Axcelis 批量植入機機群無縫集成，同時通過更新的組件提供漸進的性能改進，以實現(xiàn)長期可持續(xù)性。Ovation 將 GSD 系列平臺的生產(chǎn)相關(guān)性擴展到未來，同時提供最高的可靠性、可維護性和最低的運營成本。
100%向前推進可持續(xù)性
新的 Ovation 配置是行業(yè)用于擴容及其他領(lǐng)域的記錄工具。創(chuàng)新的改進，如虛擬機 RAID 工作站和高性能終端站，結(jié)合主動的持續(xù)改進路線圖，能夠以最快的速度、最具成本效益的方式擴展、優(yōu)化和維持平臺功能。
提高可靠性
該系統(tǒng)可減少 95% 的真空晶圓處理誤處理和晶圓破損。Ovation 平臺提供持續(xù)的可靠性計劃和強大的軟件支持，以確保最高水平的工具正常運行時間。
運營成本
創(chuàng)新的氫氣發(fā)生器、源套管屏蔽和長壽命提取電極的組合可將源運營成本降低多達 40%，尤其是氟化物質(zhì)。
優(yōu)化您的批處理過程
Ovation 介紹包括各種植入器，可讓您為批量植入過程選擇最佳能量范圍。
GSD/E2 鼓式 – 適用于一般大電流應(yīng)用。
GSD/HE 歡呼 – 10 級直線加速器，能量高達 3 MeV
GSD/VHE 歡呼 – 14 級直線加速器，能量高達 4.9 MeV
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